实验设备

● 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
● 可以通过炉体滑动达到快速升温和降温
● 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
● 通过工艺调节来控制化学计量
● 可以沉积各种材料，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.

● 输入电源: 208 – 240V AC,功率： 1.2kW
● 最高工作温度1200°C，小于60分钟
● 炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可以提高加热效率，反射率及延长仪器的使用寿命（点击文字了解涂层的详细参数）
● 连续工作温度1100°C
● 炉管采用高纯石英管：50mmOD x 44mmID x 1000mm L
● 可设置30段升降温程序，并且带有过热和断偶保护功能
● 加热区长度：200mm 单温区.
以下图片显示加热区的温度曲线图

● 输出功率: 5 -300W 可调 稳定性± 1%
● 射频电源频率: 13.56 MHz 稳定性±0.005%
● 最大反向功率: 200W
● 匹配:自动
● 射频电源电子输出端口: 50 Ω, N型半导体, 阴极
● 噪音: <50 dB.
● 冷却:风冷
● 电源: 208-240VAC, 50/60Hz

● 真空法兰采用 304不锈钢制作.
● 左端法兰上安装有 KF-25真空接口，2个KF-25快速卸装卡箍，KF-25直角阀，KF-25真空波纹管和1/4软管接头和不锈钢针阀

● AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W
● 2 Liter /S
● 出气端安装有油雾过滤器（防止油雾扩散到空气中，保护环境和人体健康）
● 真空度:  10-2 torr
可选水冷机：

1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)

160kg

CE Certified