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UNIPOL-1000D 双盘压力研磨抛光机

应用范围：UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域，广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光，以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位，可以分别进行研磨、抛光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压，压力施加于载物盘的中心，使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制，上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转，下盘作顺时针旋转，通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小，具有研磨定时功能，时间到机器自动停止，可以实现无人看守工作。

产品型号：UNIPOL-1000D

上架时间：2019-09-12

安装尺寸：780mm×590mm×750mm

重量：100kg

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UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域，广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光，以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位，可以分别进行研磨、抛光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压，压力施加于载物盘的中心，使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制，上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转，下盘作顺时针旋转，通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小，具有研磨定时功能，时间到机器自动停止，可以实现无人看守工作。

性能指标和基本配置
安装条件	● 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 ● 水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水 ● 电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 ● 气：无。 ● 工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 ● 通风装置：不需要
主要特点	● 设有两个研磨抛光工位，可分别进行研磨、抛光操作。 ● 中心加载压力，压力稳定可靠。 ● 性能优良，操作简单，适用范围广。
技术参数	● 电源：220V 50Hz ● 载物盘：Ø150mm ● 桃型孔：Ø25.4mm ● 磨抛盘：Ø250mm ● 载物盘（上盘）转速：10rpm-80rpm（无级调速） ● 磨抛盘（下盘）转速：50rpm-400rpm（增量调速，最小增量10） ● 压力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg）
产品尺寸	780mm×590mm×750mm
产品重量	100kg
标准配件	1	铸铝抛光盘	2个
	2	平载物盘	1个
	3	桃型孔载物盘	1个
	4	磁力片	4片
	5	研抛底片	6片
	6	砂纸（240#、400#、800#、1500#）	各2片
	7	抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各2片
	8	金刚石抛光膏（W2.5）	1支
可选配件	● SKZD-2滴料器 ● SKZD-3滴料器 ● SKZD-4自动滴料器 ● YJXZ-12搅拌循环泵 ● 精密测厚仪 ● GPC-50A精密磨抛控制仪 ● 陶瓷研磨盘 ● 玻璃研磨盘

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